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-Filmetrics膜厚測量儀

簡要描述:-Filmetrics膜厚測量儀:以F20平臺為基礎(chǔ)所發(fā)展的F10-HC薄膜測量系統(tǒng),能夠快速的分析薄膜 的反射光譜資料并提供測量厚度,加上F10-HC軟件的模擬演算法的設(shè)計(jì),能夠在厚膜中測量單層與多層(例如:底漆或硬涂層等)。

  • 產(chǎn)品型號:F10-HC
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-06-05
  • 訪  問  量:2358
產(chǎn)品詳情

F10-HC薄膜厚度測量儀


 

有價(jià)格優(yōu)勢的薄膜測量系統(tǒng)

以F20平臺為基礎(chǔ)所發(fā)展的F10-HC薄膜測量系統(tǒng),能夠快速的分析薄膜 的反射光譜資料并提供測量厚度,加上F10-HC軟件的模擬演算法的設(shè)計(jì),能夠在厚膜中測量單層與多層(例如:底漆或硬涂層等)。


簡易操作界面

現(xiàn)在,具有新樣板模式功能的F10-HC將更容易使用,這個(gè)功能允許用戶匯入樣品的影像(請參考下頁),并直接在影像上定義測量位置。系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)通知使用者本次測量結(jié)果是否有效,并將測量的結(jié)果顯示在匯入的影像上讓用戶分析。


不需要手動(dòng)基準(zhǔn)校正

F10-HC現(xiàn)在能夠執(zhí)行自動(dòng)化基準(zhǔn)矯正以及設(shè)置自己的積分時(shí)間這個(gè)創(chuàng)新的方法不需要頻繁的執(zhí)行基準(zhǔn)矯正就可以讓使用者立即的執(zhí)行樣本的測量。


背面反射干擾

背面反射干擾對厚度測量而言是一個(gè)光學(xué)技術(shù)的挑戰(zhàn),具有F10-HC系統(tǒng)的接觸式探頭能將背面反射干擾的影響小化,使用者能以較高的度來測量涂層厚度。

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選擇Filmetrics的優(yōu)勢

• 桌面式薄膜厚度測量

• 24小時(shí)電話,郵件和在線支持

• 所有系統(tǒng)皆使用直觀的標(biāo)準(zhǔn)分析軟件

附 加 特 性

• 嵌入式在線診斷方式

• 免費(fèi)離線分析軟件

• 精細(xì)的歷史數(shù)據(jù)功能,幫助用戶有效地存儲(chǔ),重現(xiàn)與繪制測試結(jié)果








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